• # EMMI 적외선 열영상 결함 분석 장비
  • 종합반도체(IDM) / 디스플레이 / Junction 극소결함 / 부품 / PCB 결함 분석 / 미세 결함 불량 위치 및 깊이 측정
  • Hot spot(핫스폿) / 쇼트(Short) & 누설전류(Leakage Current) 
  • # 비접촉 박막 두께 측정기
  • 반도체 장치, 안경, 스텐트, 태양 전지, 폴리머 코팅, 포토레지스트, 태양 전지 패널, LCD, MEMS 및 주사기 제조업체
  • 1nm 에서 2mm 까지 두께 측정
  • 학교 / 연구실 / 인라인 / 곡면 / 대형 부품 / 게이트형 박막 / 소형 난시 보정 분광계 측정 등  

EMMI 적외선 열영상 결함 분석 장비_종합반도체(IDM)/디스플레이/Junction 극소결함/부품/PCB 결함 분석/쇼트 및 누설전류 미세 결함 불량 위치 및 깊이 측정

토호 HL9900

홀 효과 측정

HL9900은 반도체의 저항률, 캐리어 농도, 이동도 측정을 위한 턴키 방식의 고성능 홀 효과 시스템입니다. 모듈식 설계로 간편한 업그레이드가 가능하며, 실리콘 및 화합물 반도체를 포함한 다양한 소재에 적합합니다. HL9900은 저저항 및 고저항 측정 기능을 모두 갖추고 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 프로그래밍 경험 없이도 HL9900을 설치하고 사용할 수 있습니다.

오리지널 나노메트릭스 핵심 기술 내장


응용 프로그램

홀 효과 측정을 사용하면 다음과 같은 속성을 결정할 수 있습니다.

  • 저항률/전도도
  • 유동성
  • 벌크/시트 캐리어 농도
  • 도핑 유형
  • 홀 계수
  • 자기저항
  • 저항의 수직/수평 비율


특징


  • ASTM F-76 표준에 따른 Van der Pauw, Hall Bar 및 Bridge 측정
  • 편리하고 빠른 샘플 처리량을 위한 간단한 프로브 시스템
  • 컴팩트한 벤치탑 디자인
  • 샘플 가열을 최소화하기 위한 자동 전류 기능을 포함한 넓은 전류 범위
  • 저온에서 충격 이온화 효과를 방지하기 위한 사용자 정의 전기장 제한
  • 시트 저항 측정을 1011Ω/제곱까지 확장하기 위한 옵션 고임피던스 버퍼 증폭기/전류 소스


HL9950 - 가변 온도 장치


  • ASTM F-76 표준에 따른 Van der Pauw, Hall Bar 및 Bridge 측정
  • 편리하고 빠른 샘플 처리량을 위한 간단한 프로브 시스템
  • 컴팩트한 벤치탑 디자인
  • 샘플 가열을 최소화하기 위한 자동 전류 기능을 포함한 넓은 전류 범위
  • 저온에서 충격 이온화 효과를 방지하기 위한 사용자 정의 전기장 제한
  • 시트 저항 측정을 1011Ω/제곱까지 확장하기 위한 옵션 고임피던스 버퍼 증폭기/전류 소스